Ekspozisyon vle di ke anba iradyasyon nan limyè iltravyolèt, fotoinisyatè a absòbe enèji limyè a ak dekonpoze nan radikal gratis, ak radikal yo gratis Lè sa a, kòmanse monomè a fotopolimerizasyon pote soti nan reyaksyon an polymérisation ak reticulation.Ekspozisyon jeneralman te pote soti nan yon machin otomatik ekspoze doub-sided.Koulye a, machin nan ekspoze ka divize an lè-refwadi ak dlo-refwadi dapre metòd la refwadisman nan sous la limyè.

Faktè ki afekte kalite imaj ekspoze

Anplis de pèfòmans nan fotorezistans fim nan, faktè ki afekte bon jan kalite a nan ekspozisyon D yo se seleksyon an nan sous limyè, kontwòl la nan tan ekspoze (kantite ekspoze), ak bon jan kalite a nan plak fotografi.

1) Chwa a nan sous limyè

Nenpòt kalite fim gen pwòp koub absòpsyon espèk inik li yo, ak nenpòt kalite sous limyè tou gen pwòp koub emisyon espèk li yo.Si pik prensipal absòpsyon espèk nan yon sèten kalite fim ka sipèpoze oswa sitou sipèpoze ak pik prensipal emisyon espèk nan yon sèten sous limyè, de yo byen matche ak efè a ekspoze se pi bon an.

Koub absòpsyon spectral fim sèk domestik la montre ke rejyon absòpsyon spectral la se 310-440 nm (nanomètr).Soti nan distribisyon an enèji espèk nan plizyè sous limyè, li ka wè ke lanp lan chwazi, gwo presyon mèki lanp, ak lanp galyòm yòd gen relativman gwo entansite radyasyon relatif nan seri a longèdonn 310-440nm, ki se yon sous limyè ideyal pou ekspoze fim.Lanp ksenon yo pa apwopriye pouekspozenan fim sèk.

Apre yo fin chwazi kalite sous limyè a, yo ta dwe konsidere tou sous limyè ki gen gwo pouvwa.Paske nan gwo entansite limyè a, rezolisyon segondè, ak tan ekspoze kout, degre nan deformation tèmik nan plak la fotografi tou piti.Anplis de sa, desen an nan lanp se tou trè enpòtan.Li nesesè pou eseye fè limyè ensidan an inifòm ak paralèl, konsa tankou pou evite oswa diminye efè a pòv apre ekspoze.

2) Kontwòl tan ekspoze (kantite ekspoze)

Pandan pwosesis ekspoze a, fotopolimerizasyon fim nan se pa "yon sèl-piki" oswa "yon sèl-ekspozisyon", men jeneralman ale nan twa etap.

Akòz blokaj oksijèn oswa lòt enpurte danjere nan manbràn an, yo mande yon pwosesis endiksyon, kote radikal gratis ki te pwodwi pa dekonpozisyon inisyatè a konsome pa oksijèn ak enpurte, epi polimerizasyon monomè a se minim.Sepandan, lè peryòd endiksyon an fini, fotopolimerizasyon monomè a ap kontinye rapidman, epi viskozite fim nan ogmante rapidman, apwoche nivo chanjman toudenkou.Sa a se etap la nan konsomasyon rapid nan monomè a fotosensib, ak etap sa a kont pou majorite nan ekspoze a pandan pwosesis la ekspoze.Echèl tan an piti anpil.Lè pi fò nan monomère fotosensib la konsome, li antre nan zòn nan appauvrissement monomère, ak reyaksyon fotopolymerization la te konplete nan moman sa a.

Kontwòl kòrèk nan tan ekspoze se yon faktè trè enpòtan nan jwenn bon fim sèk reziste imaj.Lè ekspoze a ensifizan, akòz polymérisation enkonplè nan monomè yo, pandan pwosesis devlopman, fim adezif la vin anfle epi li vin mou, liy yo pa klè, koulè a ​​mat, e menm degummed, ak fim nan deformation pandan pre a. -plating oswa galvanoplastie pwosesis., enfiltrasyon, oswa menm tonbe.Lè ekspoze a twò wo, li pral lakòz pwoblèm tankou difikilte nan devlopman, fim frajil, ak lakòl rezidyèl.Ki sa ki pi grav se ke ekspoze kòrèk pral lakòz devyasyon nan lajè liy imaj.Ekspozisyon twòp pral mens liy yo nan modèl plating epi fè liy yo nan enprime ak grave pi epè.Okontrè, ekspoze ensifizan pral fè liy yo nan plak modèl vin pi mens.Koryas pou fè liy yo grave enprime pi mens.