Az expozíció azt jelenti, hogy ultraibolya sugárzás hatására a fotoiniciátor elnyeli a fényenergiát és szabad gyökökké bomlik, majd a szabad gyökök elindítják a fotopolimerizációs monomert a polimerizációs és térhálósító reakció végrehajtásához.Az expozíció általában automatikus kétoldalas expozíciós gépben történik.Most az expozíciós gép lég- és vízhűtésesre osztható a fényforrás hűtési módszere szerint.
Az expozíció képminőségét befolyásoló tényezők
A filmes fotoreziszt teljesítménye mellett az expozíciós képalkotás minőségét befolyásoló tényezők a fényforrások kiválasztása, az expozíciós idő (expozíciós mennyiség) szabályozása, valamint a fotólemezek minősége.
1) A fényforrás kiválasztása
Bármilyen filmnek megvan a maga egyedi spektrális abszorpciós görbéje, és minden fényforrásnak megvan a saját emissziós spektrumgörbéje is.Ha egy bizonyos típusú film fő spektrális abszorpciós csúcsa átfedhet vagy többnyire átfedhet egy bizonyos fényforrás spektrális emissziós főcsúcsával, akkor a kettő jól illeszkedik, és az expozíciós hatás a legjobb.
A hazai száraz film spektrális abszorpciós görbéje azt mutatja, hogy a spektrális abszorpciós tartomány 310-440 nm (nanométer).Több fényforrás spektrális energiaeloszlásából is látható, hogy a pick lámpa, a nagynyomású higanylámpa és a jódgallium lámpa viszonylag nagy relatív sugárzási intenzitású a 310-440 nm hullámhossz tartományban, ami ideális fényforrás film expozíció.A xenon lámpák nem alkalmasakkitettségszáraz filmekből.
A fényforrás típusának kiválasztása után a nagy teljesítményű fényforrást is figyelembe kell venni.A nagy fényintenzitás, a nagy felbontás és a rövid expozíciós idő miatt a fotólemez hődeformációjának mértéke is kicsi.Emellett a lámpák kialakítása is nagyon fontos.Törekedni kell arra, hogy a beeső fény egyenletes és párhuzamos legyen, hogy elkerüljük vagy csökkentsük az expozíció utáni rossz hatást.
2) Az expozíciós idő szabályozása (expozíciós mennyiség)
Az expozíciós folyamat során a film fotopolimerizációja nem „egyszeri” vagy „egy expozíciós”, hanem általában három szakaszon megy keresztül.
A membrán oxigén vagy egyéb káros szennyeződések elzáródása miatt indukciós eljárásra van szükség, amelyben az iniciátor lebomlása során keletkező szabad gyököket oxigén és szennyeződések fogyasztják, és a monomer polimerizációja minimális.Az indukciós periódus végén azonban a monomer fotopolimerizációja gyorsan megy végbe, és a film viszkozitása gyorsan növekszik, megközelítve a hirtelen változás szintjét.Ez a fényérzékeny monomer gyors elfogyasztásának szakasza, és ez a szakasz teszi ki az expozíciós folyamat során bekövetkező expozíció nagy részét.Az időskála nagyon kicsi.Amikor a fényérzékeny monomer nagy része elfogy, az belép a monomer kimerülési zónába, és ekkor a fotopolimerizációs reakció befejeződött.
Az expozíciós idő helyes szabályozása nagyon fontos tényező a jó száraz filmálló képek készítésében.Ha az expozíció elégtelen, a monomerek tökéletlen polimerizációja miatt az előhívás során a ragasztófólia megduzzad és puhává válik, a vonalak nem tiszták, színe homályos, sőt gyantamentes, és a film megvetemedik az előhívás során. -bevonatozási vagy galvanizálási eljárás., szivárog, vagy akár le is esik.Ha túl magas az expozíció, az olyan problémákat okozhat, mint például a fejlesztés nehézségei, törékeny film és ragasztómaradványok.Ami még súlyosabb, hogy a helytelen expozíció a kép vonalszélességének eltérését okozza.A túlzott expozíció elvékonyítja a mintázat vonalait, és vastagabbá teszi a nyomtatási és maratási vonalakat.Éppen ellenkezőleg, az elégtelen expozíció a mintázat vonalai vékonyabbá válnak.Durva, hogy vékonyabbak legyenek a nyomtatott maratott vonalak.