ექსპოზიცია ნიშნავს, რომ ულტრაიისფერი შუქის დასხივების ქვეშ, ფოტოინიციატორი შთანთქავს სინათლის ენერგიას და იშლება თავისუფალ რადიკალებად, ხოლო თავისუფალი რადიკალები შემდეგ იწყებენ ფოტოპოლიმერიზაციის მონომერს პოლიმერიზაციისა და ჯვარედინი კავშირის რეაქციის განსახორციელებლად.ექსპოზიცია ჩვეულებრივ ხორციელდება ავტომატური ორმხრივი ექსპოზიციის აპარატში.ახლა ექსპოზიციის მანქანა შეიძლება დაიყოს ჰაერით და წყლის გაგრილებად, სინათლის წყაროს გაგრილების მეთოდის მიხედვით.

ექსპოზიციის გამოსახულების ხარისხზე მოქმედი ფაქტორები

ფილმის ფოტორეზისტის მუშაობის გარდა, ფაქტორები, რომლებიც გავლენას ახდენენ ექსპოზიციის გამოსახულების ხარისხზე, არის სინათლის წყაროების შერჩევა, ექსპოზიციის დროის კონტროლი (ექსპოზიციის რაოდენობა) და ფოტოგრაფიული ფირფიტების ხარისხი.

1) სინათლის წყაროს არჩევანი

ნებისმიერ ფილმს აქვს თავისი უნიკალური სპექტრული შთანთქმის მრუდი, და ნებისმიერი სახის სინათლის წყაროს აქვს თავისი ემისიის სპექტრული მრუდი.თუ გარკვეული ტიპის ფილმის ძირითადი სპექტრული შთანთქმის პიკი შეიძლება გადაფაროს ან უმეტესად გადაფაროს გარკვეული სინათლის წყაროს სპექტრული ემისიის მთავარ პიკთან, ეს ორი კარგად ემთხვევა და ექსპოზიციის ეფექტი საუკეთესოა.

შიდა მშრალი ფირის შთანთქმის სპექტრული მრუდი გვიჩვენებს, რომ სპექტრული შთანთქმის რეგიონია 310-440 ნმ (ნანომეტრი).სინათლის რამდენიმე წყაროს სპექტრული ენერგიის განაწილებიდან ჩანს, რომ ნათურას, მაღალი წნევის ვერცხლისწყლის ნათურას და იოდის გალიუმის ნათურას აქვს შედარებით დიდი გამოსხივების ინტენსივობა ტალღის სიგრძის დიაპაზონში 310-440 ნმ, რაც იდეალური სინათლის წყაროა. ფილმის ექსპოზიცია.ქსენონის ნათურები არ არის შესაფერისიკონტაქტი დაინფიცირების წყაროსთანმშრალი ფილმებიდან.

სინათლის წყაროს ტიპის შერჩევის შემდეგ, ასევე გასათვალისწინებელია მაღალი სიმძლავრის სინათლის წყარო.სინათლის მაღალი ინტენსივობის, მაღალი გარჩევადობისა და ექსპოზიციის მოკლე დროის გამო, ფოტოგრაფიული ფირფიტის თერმული დეფორმაციის ხარისხი ასევე მცირეა.გარდა ამისა, ძალიან მნიშვნელოვანია ნათურების დიზაინიც.აუცილებელია ვეცადოთ, რომ ინციდენტი მსუბუქი იყოს ერთგვაროვანი და პარალელური, რათა თავიდან იქნას აცილებული ან შემცირდეს ცუდი ეფექტი ექსპოზიციის შემდეგ.

2) ექსპოზიციის დროის კონტროლი (ექსპოზიციის რაოდენობა)

ექსპოზიციის პროცესის დროს, ფილმის ფოტოპოლიმერიზაცია არ არის „ერთჯერადი“ ან „ერთი ექსპოზიცია“, მაგრამ ზოგადად გადის სამ ეტაპს.

მემბრანაში ჟანგბადის ან სხვა მავნე მინარევების ობსტრუქციის გამო, საჭიროა ინდუქციური პროცესი, რომლის დროსაც ინიციატორის დაშლის შედეგად წარმოქმნილი თავისუფალი რადიკალები მოიხმარენ ჟანგბადს და მინარევებს, ხოლო მონომერის პოლიმერიზაცია მინიმალურია.თუმცა, როდესაც ინდუქციური პერიოდი დასრულდა, მონომერის ფოტოპოლიმერიზაცია სწრაფად მიმდინარეობს და ფირის სიბლანტე სწრაფად იზრდება, უახლოვდება უეცარი ცვლილების დონეს.ეს არის ფოტომგრძნობიარე მონომერის სწრაფი მოხმარების ეტაპი და ამ სტადიაზე მოდის ექსპოზიციის უმეტესი ნაწილი ექსპოზიციის პროცესში.დროის მასშტაბი ძალიან მცირეა.როდესაც ფოტომგრძნობიარე მონომერის უმეტესი ნაწილი მოიხმარება, ის შედის მონომერის ამოწურვის ზონაში და ამ დროს დასრულებულია ფოტოპოლიმერიზაციის რეაქცია.

ექსპოზიციის დროის სწორი კონტროლი ძალიან მნიშვნელოვანი ფაქტორია კარგი მშრალი ფილმის რეზისტენტული სურათების მისაღებად.როდესაც ექსპოზიცია არასაკმარისია, მონომერების არასრული პოლიმერიზაციის გამო, განვითარების პროცესში, წებოვანი ფენა იშლება და ხდება რბილი, ხაზები არ არის ნათელი, ფერი ბუნდოვანია და ღრძილების გაფუჭებაც კი, ხოლო ფილმი იხრება. - მოოქროვილი ან ელექტრული დაფარვის პროცესი., გაჟონვა, ან თუნდაც ჩამოვარდნა.როდესაც ექსპოზიცია ძალიან მაღალია, ეს გამოიწვევს პრობლემებს, როგორიცაა განვითარების სირთულე, მტვრევადი ფილმი და ნარჩენი წებო.უფრო სერიოზული ის არის, რომ არასწორი ექსპოზიცია გამოიწვევს გამოსახულების ხაზის სიგანის გადახრას.გადაჭარბებული ექსპოზიცია ათხელებს შაბლონის მოპირკეთების ხაზებს და სქელს გახდის ბეჭდვისა და ჭრის ხაზებს.პირიქით, არასაკმარისი ექსპოზიცია გახდის შაბლონის საფარის ხაზებს უფრო თხელი.უხეში, რათა დაბეჭდილი ამოჭრილი ხაზები უფრო თხელი გახდეს.