Maruz kalma, ultraviyole ışığın ışınlanması altında foto başlatıcının ışık enerjisini absorbe etmesi ve serbest radikallere ayrışması ve serbest radikallerin daha sonra polimerizasyon ve çapraz bağlanma reaksiyonunu gerçekleştirmek için fotopolimerizasyon monomerini başlatması anlamına gelir.Pozlama genellikle otomatik çift taraflı pozlama makinesinde gerçekleştirilir.Artık pozlama makinesi, ışık kaynağının soğutma yöntemine göre hava soğutmalı ve su soğutmalı olarak ayrılabilir.
Pozlama Görüntü Kalitesini Etkileyen Faktörler
Film fotorezistinin performansına ek olarak, pozlama görüntülemenin kalitesini etkileyen faktörler, ışık kaynaklarının seçimi, pozlama süresinin kontrolü (pozlama miktarı) ve fotoğraf plakalarının kalitesidir.
1) Işık kaynağı seçimi
Her tür filmin kendine özgü bir spektral absorpsiyon eğrisi vardır ve her tür ışık kaynağının da kendi emisyon spektral eğrisi vardır.Belirli bir film tipinin ana spektral absorpsiyon zirvesi, belirli bir ışık kaynağının spektral emisyon ana zirvesi ile örtüşebilir veya çoğunlukla örtüşebilirse, ikisi iyi bir şekilde eşleşir ve pozlama etkisi en iyisidir.
Yerli kuru filmin spektral absorpsiyon eğrisi, spektral absorpsiyon bölgesinin 310-440 nm (nanometre) olduğunu göstermektedir.Çeşitli ışık kaynaklarının spektral enerji dağılımından, toplama lambasının, yüksek basınçlı cıva lambasının ve iyot galyum lambasının, ideal bir ışık kaynağı olan 310-440 nm dalga boyu aralığında nispeten büyük bağıl radyasyon yoğunluğuna sahip olduğu görülebilir. filme maruz kalma.Ksenon lambalar aşağıdakiler için uygun değildir:maruziyetkuru filmlerden.
Işık kaynağı tipi seçildikten sonra yüksek güce sahip ışık kaynağına da dikkat edilmelidir.Yüksek ışık yoğunluğu, yüksek çözünürlük ve kısa pozlama süresi nedeniyle fotoğraf plakasının termal deformasyon derecesi de küçüktür.Ayrıca lambaların tasarımı da oldukça önemlidir.Maruziyet sonrası kötü etkiyi önlemek veya azaltmak için, gelen ışığı tekdüze ve paralel hale getirmeye çalışmak gerekir.
2) Maruz kalma süresinin kontrolü (maruz kalma miktarı)
Pozlama işlemi sırasında filmin fotopolimerizasyonu “tek çekim” veya “tek pozlama” değildir, genel olarak üç aşamadan geçer.
Membrandaki oksijenin veya diğer zararlı yabancı maddelerin tıkanması nedeniyle, başlatıcının ayrışmasıyla üretilen serbest radikallerin oksijen ve yabancı maddeler tarafından tüketildiği ve monomerin polimerizasyonunun minimum düzeyde olduğu bir indüksiyon işlemi gereklidir.Ancak indüksiyon periyodu bittiğinde monomerin fotopolimerizasyonu hızla ilerler ve filmin viskozitesi hızla artarak ani değişim seviyesine yaklaşır.Bu, ışığa duyarlı monomerin hızlı tüketildiği aşamadır ve bu aşama, maruz kalma işlemi sırasında maruz kalmanın çoğunluğunu oluşturur.Zaman ölçeği çok küçüktür.Işığa duyarlı monomerin çoğu tüketildiğinde monomer tükenme bölgesine girer ve bu sırada fotopolimerizasyon reaksiyonu tamamlanır.
Pozlama süresinin doğru kontrolü, iyi kuru film dirençli görüntüler elde etmede çok önemli bir faktördür.Monomerlerin eksik polimerizasyonu nedeniyle pozlama yetersiz olduğunda, geliştirme süreci sırasında yapışkan film şişer ve yumuşar, çizgiler net olmaz, renk donuklaşır ve hatta zamkı giderilir ve ön hazırlık sırasında film bükülür. -kaplama veya elektrokaplama işlemi., sızıntı veya hatta düşme.Maruz kalmanın çok yüksek olması, gelişme zorluğu, kırılgan film ve tutkal kalıntısı gibi sorunlara neden olacaktır.Daha ciddi olanı, yanlış pozlamanın görüntü çizgi genişliğinde sapmalara neden olmasıdır.Aşırı pozlama, desen kaplama çizgilerini inceltecek ve baskı ve gravür çizgilerini daha kalın hale getirecektir.Tam tersine, yetersiz pozlama desen kaplamanın çizgilerinin incelmesine neden olacaktır.Basılı kazınmış çizgileri daha ince hale getirmek için kaba.