Ekspozīcija nozīmē, ka ultravioletās gaismas apstarošanas rezultātā fotoiniciators absorbē gaismas enerģiju un sadalās brīvajos radikāļos, un pēc tam brīvie radikāļi ierosina fotopolimerizācijas monomēru, lai veiktu polimerizācijas un šķērssaistīšanas reakciju.Ekspozīcija parasti tiek veikta automātiskā abpusējās ekspozīcijas mašīnā.Tagad ekspozīcijas mašīnu var iedalīt gaisa dzesēšanas un ūdens dzesēšanas režīmā atbilstoši gaismas avota dzesēšanas metodei.

Faktori, kas ietekmē ekspozīcijas attēla kvalitāti

Papildus filmas fotorezista veiktspējai faktori, kas ietekmē ekspozīcijas attēlveidošanas kvalitāti, ir gaismas avotu izvēle, ekspozīcijas laika (ekspozīcijas apjoma) kontrole un fotoplašu kvalitāte.

1) Gaismas avota izvēle

Jebkura veida plēvei ir sava unikāla spektrālās absorbcijas līkne, un jebkura veida gaismas avotam ir arī sava emisijas spektrālā līkne.Ja noteikta veida plēves galvenā spektrālās absorbcijas maksimums var pārklāties vai pārsvarā pārklāties ar noteikta gaismas avota spektrālās emisijas galveno maksimumu, abi ir labi saskaņoti un ekspozīcijas efekts ir vislabākais.

Sausās plēves spektrālās absorbcijas līkne parāda, ka spektrālās absorbcijas apgabals ir 310–440 nm (nanometrs).No vairāku gaismas avotu spektrālās enerģijas sadalījuma var redzēt, ka izplūdes lampai, augstspiediena dzīvsudraba spuldzei un joda gallija lampai ir salīdzinoši liela relatīvā starojuma intensitāte viļņu garuma diapazonā no 310 līdz 440 nm, kas ir ideāls gaismas avots filmas ekspozīcija.Ksenona lampas nav piemērotasiedarbībano sausām plēvēm.

Pēc gaismas avota veida izvēles jāņem vērā arī gaismas avots ar lielu jaudu.Augstas gaismas intensitātes, augstas izšķirtspējas un īsa ekspozīcijas laika dēļ arī fotoplāksnes termiskās deformācijas pakāpe ir maza.Turklāt ļoti svarīgs ir arī lampu dizains.Ir jācenšas panākt, lai krītošā gaisma būtu vienmērīga un paralēla, lai izvairītos vai samazinātu slikto efektu pēc iedarbības.

2) Ekspozīcijas laika kontrole (ekspozīcijas apjoms)

Ekspozīcijas procesā filmas fotopolimerizācija nav “vienreizēja” vai “viena ekspozīcija”, bet parasti notiek trīs posmos.

Sakarā ar skābekļa vai citu kaitīgu piemaisījumu aizsprostojumu membrānā ir nepieciešams indukcijas process, kurā brīvos radikāļus, kas rodas, sadaloties iniciatoram, patērē skābeklis un piemaisījumi, un monomēra polimerizācija ir minimāla.Tomēr, kad indukcijas periods ir beidzies, monomēra fotopolimerizācija notiek strauji, un plēves viskozitāte strauji palielinās, tuvojoties pēkšņu izmaiņu līmenim.Šis ir gaismjutīgā monomēra ātras patēriņa posms, un šis posms veido lielāko ekspozīcijas daļu ekspozīcijas procesa laikā.Laika skala ir ļoti maza.Kad lielākā daļa gaismjutīgā monomēra tiek patērēta, tas nonāk monomēra izsīkuma zonā, un šajā laikā fotopolimerizācijas reakcija ir pabeigta.

Pareiza ekspozīcijas laika kontrole ir ļoti svarīgs faktors, lai iegūtu labus attēlus, kas izturīgi pret sausu filmu.Ja ekspozīcija ir nepietiekama monomēru nepilnīgas polimerizācijas dēļ, attīstīšanas procesā līmplēve uzbriest un kļūst mīksta, līnijas nav skaidras, krāsa ir blāva un pat attīrīta, un plēve deformējas iepriekšējas apstrādes laikā. -pārklāšanas vai galvanizācijas process., izplūst vai pat nokrist.Ja ekspozīcija ir pārāk augsta, tas radīs tādas problēmas kā izstrādes grūtības, trausla plēve un līmes paliekas.Nopietnāk ir tas, ka nepareiza ekspozīcija izraisīs attēla līnijas platuma novirzes.Pārmērīga ekspozīcija samazina raksta apšuvuma līnijas un padarīs drukas un kodināšanas līnijas biezākas.Gluži pretēji, nepietiekama ekspozīcija padarīs raksta apšuvuma līnijas plānākas.Rupji, lai drukātās iegravētās līnijas būtu plānākas.