L-espożizzjoni tfisser li taħt l-irradjazzjoni tad-dawl ultravjola, il-fotoinizjatur jassorbi l-enerġija tad-dawl u jiddekomponi f'radikali ħielsa, u r-radikali ħielsa mbagħad jibdew il-monomeru tal-fotopolimerizzazzjoni biex iwettqu r-reazzjoni ta 'polimerizzazzjoni u crosslinking.L-espożizzjoni ġeneralment titwettaq f'magna awtomatika ta 'espożizzjoni b'żewġ naħat.Issa l-magna ta 'espożizzjoni tista' tinqasam fi mkessħa bl-arja u mkessħa bl-ilma skond il-metodu tat-tkessiħ tas-sors tad-dawl.

Fatturi li Jaffettwaw il-Kwalità tal-Immaġni tal-Espożizzjoni

Minbarra l-prestazzjoni tal-film photoresist, il-fatturi li jaffettwaw il-kwalità tal-immaġini tal-espożizzjoni huma l-għażla tas-sorsi tad-dawl, il-kontroll tal-ħin tal-espożizzjoni (ammont tal-espożizzjoni), u l-kwalità tal-pjanċi fotografiċi.

1) L-għażla tas-sors tad-dawl

Kull tip ta 'film għandu l-kurva ta' assorbiment spettrali unika tiegħu stess, u kull tip ta 'sors tad-dawl għandu wkoll il-kurva spettrali ta' emissjoni tiegħu stess.Jekk il-quċċata ta 'assorbiment spettrali prinċipali ta' ċertu tip ta 'film jista' jikkoinċidi jew l-aktar jikkoinċidi mal-quċċata prinċipali ta 'emissjoni spettrali ta' ċertu sors tad-dawl, it-tnejn huma mqabbla sew u l-effett ta 'espożizzjoni huwa l-aħjar.

Il-kurva ta 'assorbiment spettrali tal-film niexef domestiku turi li r-reġjun ta' assorbiment spettrali huwa 310-440 nm (nanometru).Mid-distribuzzjoni tal-enerġija spettrali ta 'diversi sorsi tad-dawl, wieħed jista' jara li l-lampa pick, fanal tal-merkurju bi pressjoni għolja, u fanal tal-gallju tal-jodju għandhom intensità ta 'radjazzjoni relattiva relattivament kbira fil-medda ta' wavelength ta '310-440nm, li hija sors ta' dawl ideali għal espożizzjoni tal-films.Lampi Xenon mhumiex adattati għalespożizzjonita' films niexfa.

Wara li jintgħażel it-tip ta 'sors tad-dawl, għandu jiġi kkunsidrat ukoll is-sors tad-dawl b'qawwa għolja.Minħabba l-intensità tad-dawl għolja, riżoluzzjoni għolja, u ħin ta 'espożizzjoni qasir, il-grad ta' deformazzjoni termali tal-pjanċa fotografika huwa wkoll żgħir.Barra minn hekk, id-disinn tal-lampi huwa wkoll importanti ħafna.Huwa meħtieġ li tipprova tagħmel id-dawl inċidentali uniformi u parallel, sabiex tevita jew tnaqqas l-effett ħażin wara l-espożizzjoni.

2) Kontroll tal-ħin tal-espożizzjoni (ammont tal-espożizzjoni)

Matul il-proċess ta 'espożizzjoni, il-fotopolimerizzazzjoni tal-film mhix "one-shot" jew "one-esposure", iżda ġeneralment tgħaddi minn tliet stadji.

Minħabba l-ostruzzjoni tal-ossiġnu jew impuritajiet oħra ta 'ħsara fil-membrana, huwa meħtieġ proċess ta' induzzjoni, li fih ir-radikali ħielsa ġġenerati mid-dekompożizzjoni tal-inizjatur huma kkunsmati mill-ossiġnu u impuritajiet, u l-polimerizzazzjoni tal-monomeru hija minima.Madankollu, meta jintemm il-perjodu ta 'induzzjoni, il-fotopolimerizzazzjoni tal-monomeru tipproċedi malajr, u l-viskożità tal-film tiżdied malajr, toqrob lejn il-livell ta' bidla f'daqqa.Dan huwa l-istadju ta 'konsum rapidu tal-monomeru fotosensittiv, u dan l-istadju jammonta għall-maġġoranza tal-espożizzjoni matul il-proċess ta' espożizzjoni.L-iskala taż-żmien hija żgħira ħafna.Meta l-biċċa l-kbira tal-monomeru fotosensittiv jiġi kkunsmat, jidħol fiż-żona tat-tnaqqis tal-monomeru, u r-reazzjoni ta 'fotopolimerizzazzjoni tkun tlestiet f'dan iż-żmien.

Kontroll korrett tal-ħin ta 'espożizzjoni huwa fattur importanti ħafna fil-kisba ta' stampi tajba ta 'reżistu ta' film niexef.Meta l-espożizzjoni hija insuffiċjenti, minħabba l-polimerizzazzjoni mhux kompluta tal-monomeri, matul il-proċess ta 'żvilupp, il-film li jwaħħal jintefaħ u jsir artab, il-linji mhumiex ċari, il-kulur huwa matt, u anke degummed, u l-film warps matul il-pre -proċess ta 'plating jew electroplating., infiltrazzjoni, jew saħansitra jaqgħu barra.Meta l-espożizzjoni tkun għolja wisq, tikkawża problemi bħal diffikultà fl-iżvilupp, film fraġli, u kolla residwa.X'inhu aktar serju huwa li l-espożizzjoni mhux korretta tikkawża devjazzjoni tal-wisa 'tal-linja tal-immaġni.Espożizzjoni eċċessiva se rqiq il-linji tal-kisi tal-mudell u tagħmel il-linji tal-istampar u l-inċiżjoni eħxen.Għall-kuntrarju, espożizzjoni insuffiċjenti tagħmel il-linji tal-kisi tal-mudell isiru irqaq.Oħxon biex tagħmel il-linji stampati nċiżi irqaq.