Ekspozicija reiškia, kad apšvitinant ultravioletinę šviesą fotoiniciatorius sugeria šviesos energiją ir skyla į laisvuosius radikalus, o laisvieji radikalai inicijuoja fotopolimerizacijos monomerą, kad atliktų polimerizacijos ir kryžminimo reakciją.Ekspozicija paprastai atliekama automatine dvipusio ekspozicijos mašina.Dabar ekspozicijos aparatą galima suskirstyti į oru ir vandeniu aušinamą pagal šviesos šaltinio aušinimo metodą.
Veiksniai, turintys įtakos ekspozicijos vaizdo kokybei
Be juostos fotorezisto veikimo, ekspozicijos vaizdų kokybei įtakos turintys veiksniai yra šviesos šaltinių pasirinkimas, ekspozicijos laiko (ekspozicijos kiekio) kontrolė ir fotografinių plokščių kokybė.
1) Šviesos šaltinio pasirinkimas
Bet kuri plėvelė turi savo unikalią spektrinės sugerties kreivę, o bet koks šviesos šaltinis taip pat turi savo emisijos spektrinę kreivę.Jei tam tikro tipo plėvelės pagrindinė spektrinės sugerties smailė gali sutapti arba dažniausiai sutampa su tam tikro šviesos šaltinio pagrindine spektrinės emisijos smaile, jie abu yra gerai suderinti ir ekspozicijos efektas yra geriausias.
Buitinės sausos plėvelės spektrinės sugerties kreivė rodo, kad spektrinės sugerties sritis yra 310-440 nm (nanometras).Iš kelių šviesos šaltinių spektrinio energijos pasiskirstymo matyti, kad rinktinės lempos, aukšto slėgio gyvsidabrio lempos ir jodo galio lempos santykinis spinduliuotės intensyvumas yra 310–440 nm bangos ilgio diapazone, o tai yra idealus šviesos šaltinis. filmo ekspozicija.Ksenoninės lempos netinkapoveikissausų plėvelių.
Pasirinkus šviesos šaltinio tipą, taip pat reikėtų atsižvelgti į didelės galios šviesos šaltinį.Dėl didelio šviesos intensyvumo, didelės skiriamosios gebos ir trumpo ekspozicijos laiko fotografijos plokštės šiluminės deformacijos laipsnis taip pat yra mažas.Be to, labai svarbus ir lempų dizainas.Būtina stengtis, kad krintanti šviesa būtų vienoda ir lygiagreti, kad būtų išvengta arba sumažintas prastas poveikis po ekspozicijos.
2) Ekspozicijos laiko (ekspozicijos kiekio) kontrolė
Ekspozicijos proceso metu plėvelės fotopolimerizacija nėra „vieno kadro“ ar „vienos ekspozicijos“, bet paprastai vyksta trimis etapais.
Dėl deguonies ar kitų kenksmingų priemaišų užsikimšimo membranoje reikalingas indukcijos procesas, kurio metu irstant iniciatoriui susidarančius laisvuosius radikalus sunaudoja deguonis ir priemaišos, o monomero polimerizacija yra minimali.Tačiau pasibaigus indukcijos periodui, monomero fotopolimerizacija vyksta greitai, plėvelės klampumas sparčiai didėja ir artėja prie staigių pokyčių lygio.Tai yra greito šviesai jautraus monomero suvartojimo etapas, ir šis etapas sudaro didžiąją ekspozicijos dalį ekspozicijos proceso metu.Laiko skalė labai maža.Kai sunaudojama dauguma šviesai jautraus monomero, jis patenka į monomero išeikvojimo zoną ir šiuo metu fotopolimerizacijos reakcija yra baigta.
Teisingas ekspozicijos laiko valdymas yra labai svarbus veiksnys norint gauti gerus sausos plėvelės atsparius vaizdus.Kai ekspozicija yra nepakankama, dėl nepilnos monomerų polimerizacijos, ryškinimo proceso metu lipni plėvelė išsipučia ir tampa minkšta, linijos neaiškios, spalva blyški ir net nuvalyta, plėvelė deformuojasi išankstinio apdorojimo metu. - padengimo arba galvanizavimo procesas., prasisunkti ar net nukristi.Kai ekspozicija yra per didelė, gali kilti problemų, tokių kaip ryškinimo sunkumai, trapi plėvelė ir klijų likučiai.Rimtesnis dalykas yra tai, kad dėl netinkamos ekspozicijos nukrypsta vaizdo linijos plotis.Pernelyg didelė ekspozicija suplonins rašto dengimo linijas, o spausdinimo ir ėsdinimo linijos taps storesnės.Priešingai, dėl nepakankamo eksponavimo rašto linijos taps plonesnės.Grubus, kad išspausdintos išgraviruotos linijos būtų plonesnės.