Ekspozycja oznacza, że ​​pod wpływem promieniowania ultrafioletowego fotoinicjator pochłania energię świetlną i rozkłada się na wolne rodniki, które następnie inicjują monomer fotopolimeryzacji w celu przeprowadzenia reakcji polimeryzacji i sieciowania.Naświetlanie zazwyczaj przeprowadza się w automatycznej maszynie do dwustronnego naświetlania.Teraz maszynę do naświetlania można podzielić na chłodzoną powietrzem i chłodzoną wodą, zgodnie z metodą chłodzenia źródła światła.

Czynniki wpływające na jakość obrazu z ekspozycją

Oprócz parametrów kliszy fotorezystu na jakość obrazu naświetlania wpływają także dobór źródeł światła, kontrola czasu naświetlania (ilości ekspozycji) oraz jakość klisz fotograficznych.

1) Wybór źródła światła

Każdy rodzaj folii ma swoją własną, unikalną krzywą absorpcji widmowej, a każdy rodzaj źródła światła ma również własną krzywą widma emisji.Jeśli główny pik absorpcji widmowej określonego rodzaju folii może pokrywać się lub w większości pokrywać się z głównym pikiem emisji widmowej określonego źródła światła, oba są dobrze dopasowane, a efekt ekspozycji jest najlepszy.

Krzywa absorpcji widmowej suchej folii domowej pokazuje, że obszar absorpcji widmowej wynosi 310-440 nm (nanometr).Z widmowego rozkładu energii kilku źródeł światła można zauważyć, że lampa pickowa, wysokoprężna lampa rtęciowa i lampa jodowo-galowa mają stosunkowo duże względne natężenie promieniowania w zakresie długości fal 310–440 nm, co jest idealnym źródłem światła dla ekspozycja filmu.Lampy ksenonowe nie nadają się donarażeniesuchych filmów.

Po wybraniu rodzaju źródła światła należy wziąć pod uwagę także źródło światła o dużej mocy.Ze względu na duże natężenie światła, wysoką rozdzielczość i krótki czas naświetlania, stopień odkształcenia termicznego kliszy fotograficznej jest również niewielki.Poza tym bardzo ważny jest także design lamp.Należy starać się, aby padające światło było jednolite i równoległe, aby uniknąć lub zmniejszyć słaby efekt po naświetleniu.

2) Kontrola czasu ekspozycji (ilość ekspozycji)

Podczas procesu naświetlania fotopolimeryzacja filmu nie jest „jednorazowa” ani „jedna ekspozycja”, ale zazwyczaj przebiega przez trzy etapy.

Ze względu na zablokowanie w membranie tlenu lub innych szkodliwych zanieczyszczeń wymagany jest proces indukcji, w którym wolne rodniki powstałe w wyniku rozkładu inicjatora są pochłaniane przez tlen i zanieczyszczenia, a polimeryzacja monomeru jest minimalna.Jednakże po zakończeniu okresu indukcji fotopolimeryzacja monomeru postępuje szybko, a lepkość filmu gwałtownie wzrasta, zbliżając się do poziomu nagłej zmiany.Jest to etap szybkiego zużycia fotoczułego monomeru i ten etap odpowiada za większość ekspozycji podczas procesu naświetlania.Skala czasu jest bardzo mała.Kiedy większość światłoczułego monomeru zostanie zużyta, wchodzi on do strefy wyczerpania monomeru i w tym momencie reakcja fotopolimeryzacji zostaje zakończona.

Prawidłowa kontrola czasu naświetlania jest bardzo ważnym czynnikiem pozwalającym uzyskać obrazy o dobrej odporności na suchą warstwę.Gdy naświetlenie jest niewystarczające, z powodu niepełnej polimeryzacji monomerów, podczas procesu wywoływania warstwa kleju pęcznieje i staje się miękka, linie nie są wyraźne, kolor jest matowy, a nawet odśluzowany, a folia wypacza się podczas wstępnego - proces powlekania lub galwanizacji., przesiąkać lub nawet odpadać.Gdy ekspozycja jest zbyt wysoka, może to powodować problemy, takie jak trudności w wywoływaniu, kruchość filmu i pozostałości kleju.Poważniejsze jest to, że niewłaściwa ekspozycja spowoduje odchylenie szerokości linii obrazu.Nadmierne naświetlenie spowoduje rozrzedzenie linii platerowania wzoru i sprawi, że linie druku i trawienia będą grubsze.Wręcz przeciwnie, niewystarczające naświetlenie spowoduje, że linie wzoru staną się cieńsze.Gruba, aby wydrukowane wytrawione linie były cieńsze.