Exposição significa que sob a irradiação da luz ultravioleta, o fotoiniciador absorve a energia luminosa e se decompõe em radicais livres, e os radicais livres iniciam então o monômero de fotopolimerização para realizar a reação de polimerização e reticulação.A exposição é geralmente realizada em uma máquina automática de exposição dupla-face.Agora a máquina de exposição pode ser dividida em resfriada a ar e resfriada a água de acordo com o método de resfriamento da fonte de luz.

Fatores que afetam a qualidade da imagem de exposição

Além do desempenho do filme fotorresistente, os fatores que afetam a qualidade da imagem de exposição são a seleção das fontes de luz, o controle do tempo de exposição (quantidade de exposição) e a qualidade das chapas fotográficas.

1) A escolha da fonte de luz

Qualquer tipo de filme tem sua própria curva de absorção espectral, e qualquer tipo de fonte de luz também tem sua própria curva espectral de emissão.Se o pico principal de absorção espectral de um determinado tipo de filme puder se sobrepor ou se sobrepor principalmente ao pico principal de emissão espectral de uma determinada fonte de luz, os dois serão bem combinados e o efeito de exposição será o melhor.

A curva de absorção espectral do filme seco doméstico mostra que a região de absorção espectral é de 310-440 nm (nanômetros).A partir da distribuição de energia espectral de várias fontes de luz, pode-se observar que a lâmpada pick, a lâmpada de mercúrio de alta pressão e a lâmpada de iodo-gálio têm intensidade de radiação relativa relativamente grande na faixa de comprimento de onda de 310-440 nm, que é uma fonte de luz ideal para exposição cinematográfica.As lâmpadas Xenon não são adequadas paraexposiçãode filmes secos.

Após a seleção do tipo de fonte de luz, a fonte de luz com alta potência também deve ser considerada.Devido à alta intensidade de luz, alta resolução e curto tempo de exposição, o grau de deformação térmica da chapa fotográfica também é pequeno.Além disso, o design das lâmpadas também é muito importante.É necessário tentar tornar a luz incidente uniforme e paralela, de modo a evitar ou reduzir o mau efeito após a exposição.

2) Controle do tempo de exposição (quantidade de exposição)

Durante o processo de exposição, a fotopolimerização do filme não é “one-shot” ou “one-exposure”, mas geralmente passa por três etapas.

Devido à obstrução de oxigênio ou outras impurezas nocivas na membrana, é necessário um processo de indução, no qual os radicais livres gerados pela decomposição do iniciador são consumidos por oxigênio e impurezas, e a polimerização do monômero é mínima.Contudo, quando o período de indução termina, a fotopolimerização do monômero prossegue rapidamente e a viscosidade do filme aumenta rapidamente, aproximando-se do nível de mudança repentina.Esta é a fase de rápido consumo do monômero fotossensível, e esta fase é responsável pela maior parte da exposição durante o processo de exposição.A escala de tempo é muito pequena.Quando a maior parte do monômero fotossensível é consumida, ele entra na zona de depleção de monômero e a reação de fotopolimerização está concluída neste momento.

O controle correto do tempo de exposição é um fator muito importante na obtenção de boas imagens de resistência ao filme seco.Quando a exposição é insuficiente, devido à polimerização incompleta dos monômeros, durante o processo de revelação, o filme adesivo incha e amolece, as linhas não ficam nítidas, a cor fica opaca e até degomada, e o filme deforma durante o pré -processo de galvanização ou galvanoplastia., infiltração ou até mesmo queda.Quando a exposição é muito alta, causará problemas como dificuldade de revelação, filme quebradiço e cola residual.O que é mais sério é que a exposição incorreta causará desvio na largura da linha da imagem.A exposição excessiva afinará as linhas do revestimento do padrão e tornará as linhas de impressão e gravação mais espessas.Pelo contrário, a exposição insuficiente fará com que as linhas do revestimento do padrão se tornem mais finas.Grosso para tornar as linhas gravadas impressas mais finas.