Expozícia znamená, že pri ožiarení ultrafialovým svetlom fotoiniciátor absorbuje svetelnú energiu a rozloží sa na voľné radikály a voľné radikály potom iniciujú fotopolymerizačný monomér, aby sa uskutočnila polymerizačná a zosieťovacia reakcia.Expozícia sa zvyčajne vykonáva v automatickom obojstrannom expozičnom stroji.Teraz je možné osvitový stroj rozdeliť na vzduchom chladený a vodou chladený podľa spôsobu chladenia svetelného zdroja.
Faktory ovplyvňujúce kvalitu expozície obrazu
Okrem výkonu filmového fotorezistu sú faktormi, ktoré ovplyvňujú kvalitu zobrazenia expozície, výber svetelných zdrojov, kontrola času expozície (množstvo expozície) a kvalita fotografických dosiek.
1) Výber svetelného zdroja
Akýkoľvek druh filmu má svoju vlastnú jedinečnú spektrálnu absorpčnú krivku a každý druh svetelného zdroja má tiež svoju vlastnú emisnú spektrálnu krivku.Ak sa hlavný vrchol spektrálnej absorpcie určitého typu filmu môže prekrývať alebo väčšinou prekrývať s hlavným vrcholom spektrálnej emisie určitého svetelného zdroja, tieto dva sú dobre zladené a efekt expozície je najlepší.
Spektrálna absorpčná krivka domáceho suchého filmu ukazuje, že spektrálna absorpčná oblasť je 310-440 nm (nanometer).Zo spektrálnej distribúcie energie niekoľkých svetelných zdrojov je vidieť, že výbojka, vysokotlaková ortuťová výbojka a jódgálium výbojka majú relatívne veľkú relatívnu intenzitu žiarenia v rozsahu vlnových dĺžok 310-440nm, čo je ideálny svetelný zdroj pre filmová expozícia.Xenónové výbojky nie sú vhodné prevystaveniesuchých filmov.
Po výbere typu svetelného zdroja je potrebné zvážiť aj svetelný zdroj s vysokým výkonom.Kvôli vysokej intenzite svetla, vysokému rozlíšeniu a krátkemu expozičnému času je stupeň tepelnej deformácie fotografickej dosky tiež malý.Okrem toho je veľmi dôležitý aj dizajn svietidiel.Je potrebné pokúsiť sa urobiť dopadajúce svetlo rovnomerné a paralelné, aby sa predišlo alebo znížilo slabé pôsobenie po expozícii.
2) Kontrola času expozície (množstvo expozície)
Počas procesu expozície nie je fotopolymerizácia filmu „jednorazová“ alebo „jednorazová“, ale vo všeobecnosti prechádza tromi fázami.
Kvôli upchatiu kyslíka alebo iných škodlivých nečistôt v membráne je potrebný indukčný proces, pri ktorom sú voľné radikály vznikajúce rozkladom iniciátora spotrebované kyslíkom a nečistotami a polymerizácia monoméru je minimálna.Keď sa však indukčná perióda skončí, fotopolymerizácia monoméru prebieha rýchlo a viskozita filmu sa rýchlo zvyšuje a blíži sa k úrovni náhlej zmeny.Toto je fáza rýchlej spotreby fotosenzitívneho monoméru a táto fáza predstavuje väčšinu expozície počas procesu expozície.Časový rozsah je veľmi malý.Keď sa väčšina fotosenzitívneho monoméru spotrebuje, vstúpi do zóny vyčerpania monoméru a fotopolymerizačná reakcia je v tomto čase dokončená.
Správna kontrola expozičného času je veľmi dôležitým faktorom pri získavaní obrázkov s dobrou odolnosťou voči suchému filmu.Keď je expozícia nedostatočná, v dôsledku neúplnej polymerizácie monomérov, počas procesu vyvolávania adhezívny film napučí a zmäkne, čiary nie sú jasné, farba je matná a dokonca odglejovaná a film sa počas predbežného spracovania deformuje. - proces pokovovania alebo elektrolytického pokovovania., presakovať alebo dokonca spadnúť.Keď je expozícia príliš vysoká, spôsobí problémy, ako sú ťažkosti s vyvolávaním, krehký film a zvyškové lepidlo.Závažnejšie je, že nesprávna expozícia spôsobí odchýlku šírky čiary obrazu.Nadmerná expozícia zoslabuje línie pokovovania vzorom a hrubšie čiary tlače a leptania.Naopak, nedostatočná expozícia spôsobí, že línie pokovovania sa stanú tenšími.Hrubé, aby boli vytlačené leptané čiary tenšie.