ຂະບວນການ etching board PCB, ເຊິ່ງໃຊ້ຂະບວນການ etching ສານເຄມີແບບດັ້ງເດີມເພື່ອ corrode ພື້ນທີ່ບໍ່ມີການປ້ອງກັນ.ຄືກັບການຂຸດຂຸມຝັງດິນ, ເປັນວິທີການທີ່ມີປະໂຫຍດແຕ່ບໍ່ມີປະສິດທິພາບ.

ໃນຂະບວນການ etching, ມັນຍັງໄດ້ແບ່ງອອກເປັນຂະບວນການຮູບເງົາໃນທາງບວກແລະຂະບວນການຮູບເງົາທາງລົບ.ຂະບວນການຟິມບວກໃຊ້ກົ່ວຄົງທີ່ເພື່ອປົກປ້ອງວົງຈອນ, ແລະຂະບວນການຟິມລົບໃຊ້ຮູບເງົາແຫ້ງຫຼືແຜ່ນປຽກເພື່ອປົກປ້ອງວົງຈອນ.ຂອບຂອງເສັ້ນ ຫຼື pads ແມ່ນ misshapen ກັບແບບດັ້ງເດີມຮອຍຂີດຂ່ວນວິທີການ.ທຸກໆຄັ້ງທີ່ເສັ້ນແມ່ນເພີ່ມຂຶ້ນ 0.0254mm, ຂອບຈະ inclined ໃນລະດັບໃດຫນຶ່ງ.ເພື່ອຮັບປະກັນຊ່ອງຫວ່າງທີ່ພຽງພໍ, ຊ່ອງຫວ່າງຂອງສາຍໄດ້ຖືກວັດແທກສະເຫມີຢູ່ຈຸດທີ່ໃກ້ທີ່ສຸດຂອງສາຍໄຟທີ່ກໍານົດໄວ້ກ່ອນແຕ່ລະຄົນ.

ມັນໃຊ້ເວລາຫຼາຍກວ່າທີ່ຈະ etch ອອນສ໌ຂອງທອງແດງເພື່ອສ້າງຊ່ອງຫວ່າງຂະຫນາດໃຫຍ່ໃນ void ຂອງສາຍໄດ້.ອັນນີ້ເອີ້ນວ່າປັດໄຈ etch, ແລະໂດຍບໍ່ມີການຜູ້ຜະລິດສະຫນອງບັນຊີລາຍຊື່ທີ່ຈະແຈ້ງຂອງຊ່ອງຫວ່າງຕ່ໍາສຸດຕໍ່ອອນຂອງທອງແດງ, ຮຽນຮູ້ປັດໄຈ etch ຂອງຜູ້ຜະລິດ.ມັນເປັນສິ່ງ ສຳ ຄັນຫຼາຍທີ່ຈະຄິດໄລ່ຄວາມອາດສາມາດຕໍ່າສຸດຕໍ່ອອນຂອງທອງແດງ.ປັດໄຈ etch ຍັງມີຜົນກະທົບຕໍ່ຮູແຫວນຂອງຜູ້ຜະລິດ.ຂະຫນາດຂຸມວົງແຫວນແບບດັ້ງເດີມແມ່ນ 0.0762mm imaging + 0.0762mm ເຈາະ + 0.0762 stacking, ສໍາລັບຈໍານວນທັງຫມົດ 0.2286.Etch, ຫຼືປັດໄຈ etch, ແມ່ນຫນຶ່ງໃນສີ່ຂໍ້ກໍານົດຕົ້ນຕໍທີ່ລະບຸລະດັບຂະບວນການ.

ເພື່ອປ້ອງກັນບໍ່ໃຫ້ຊັ້ນປ້ອງກັນຫຼຸດລົງແລະຕອບສະຫນອງຄວາມຕ້ອງການໄລຍະຫ່າງຂອງຂະບວນການ etching ສານເຄມີ, etching ແບບດັ້ງເດີມກໍານົດວ່າໄລຍະຫ່າງຕໍາ່ສຸດທີ່ລະຫວ່າງສາຍຄວນບໍ່ຫນ້ອຍກວ່າ 0.127mm.ພິຈາລະນາປະກົດການຂອງ corrosion ພາຍໃນແລະ undercut ໃນລະຫວ່າງການຂະບວນການ etching, width ຂອງສາຍຄວນໄດ້ຮັບການເພີ່ມຂຶ້ນ.ຄ່ານີ້ຖືກກໍານົດໂດຍຄວາມຫນາຂອງຊັ້ນດຽວກັນ.ຊັ້ນທອງແດງທີ່ໜາຍິ່ງຂຶ້ນ, ມັນໃຊ້ເວລາດົນຂຶ້ນໃນການຂັດທອງແດງລະຫວ່າງສາຍໄຟ ແລະ ພາຍໃຕ້ການເຄືອບປ້ອງກັນ.ຂ້າງເທິງ, ມີສອງຂໍ້ມູນທີ່ຕ້ອງໄດ້ຮັບການພິຈາລະນາສໍາລັບການ etching ສານເຄມີ: ປັດໄຈ etch - ຈໍານວນຂອງ etched ທອງແດງຕໍ່ອອນ;ແລະຊ່ອງຫວ່າງຕໍາ່ສຸດທີ່ຫຼືຄວາມກວ້າງ pitch ຕໍ່ອອນຂອງທອງແດງ.