Aféierung vun der Lötmaskentënt, déi an der Produktioun vu Leiterplatten benotzt gëtt

Am Produktiounsprozess vun der Leiterplatine, fir den Isolatiounseffekt tëscht de Pads an de Linnen, an tëscht de Linnen an de Linnen z'erreechen, ass de Lötmaskenprozess essentiell, an den Zweck vun der Lötmaske ass den Deel ze trennen fir den Isolatiounseffekt z'erreechen. Normalerweis kennen vill Leit d'Tënt net ganz gutt. Am Moment ginn UV-Drocktënten haaptsächlech fir den Drock vu Leiterplatten benotzt. Flexibel Leiterplatten a PCB-Hardboards ginn normalerweis Offsetdruck, Letterpressdruck, Gravuredruck, Siebdruck an Tëntendrock benotzt. UV-gedréckte Leiterplatte-Tënten ginn elo wäit verbreet beim Drock vu Leiterplatten (kuerz PCB) benotzt. Am Folgenden ginn dräi üblech benotzt Mimeographie-Methoden fir d'Leiterplatte-Tënt virgestallt.

Éischtens, UV-Tënt fir d'Gravurdruck. Am Beräich vum Gravurdruck gouf UV-Tënt selektiv benotzt, awer d'Technologie an d'Käschte sinn deementspriechend eropgaang. Mat der ëmmer méi grousser Stëmm vum Ëmweltschutz an de méi strenge Fuerderungen fir d'Sécherheet vu Verpackungsdréckmaterial, besonnesch Liewensmëttelverpackungen, wäert UV-Tënt en Entwécklungstrend vun der Gravurdrucktënt ginn.

Zweetens, d'Benotzung vun UV-Tënt am Offsetdruck kann d'Pulversprëtzen vermeiden, wat gutt fir d'Botzen vun der Dréckëmfeld ass, an d'Problemer vermeit, déi duerch d'Pulversprëtzen bei der Postdruckveraarbechtung verursaacht ginn, wéi den Effekt op d'Glasur an d'Laminéierung, a kann d'Verbindungsveraarbechtung ausféieren.

Drëttens, UV-Faarwen fir d'Gravurdruck. Am Beräich vum Gravurdruck gi UV-Faarwen selektiv benotzt. Beim Flexographiedrock, besonnesch beim Schmalweb-Flexographiedrock, leeë d'Leit méi Wäert op manner Ausfallzäit, méi staark Haltbarkeet, Reibung, besser Drockqualitéit, etc. D'Produkter, déi mat UV-Faarf gedréckt ginn, hunn eng héich Punktdefinitioun, eng kleng Punktvergréisserung an eng hell Tëntfaarf, déi eng Klass méi héich ass wéi déi vum Waasserbaséierten Tëntdrock. UV-Faarf huet breet Entwécklungsperspektiven.