Die Größe elektronischer Produkte wird immer dünner und kleiner, und das direkte Stapeln von Vias auf Blind Vias ist eine Entwurfsmethode für hochdichte Verbindungen.Um die Löcher gut stapeln zu können, muss zunächst darauf geachtet werden, dass der Boden des Lochs eben ist.Es gibt verschiedene Herstellungsverfahren, und das Lochfüllverfahren durch Galvanisieren ist eines der repräsentativsten.
1. Vorteile der Galvanisierung und Lochfüllung:
(1) Es ist förderlich für die Gestaltung von gestapelten Löchern und Löchern auf der Platte;
(2) Verbesserung der elektrischen Leistung und Unterstützung des Hochfrequenzdesigns;
(3) hilft, Wärme abzuleiten;
(4) Das Steckerloch und die elektrische Verbindung werden in einem Schritt fertiggestellt.
(5) Das Sackloch ist mit galvanisiertem Kupfer gefüllt, das eine höhere Zuverlässigkeit und bessere Leitfähigkeit als leitfähiger Klebstoff aufweist
 
2. Physikalische Einflussparameter
Zu den zu untersuchenden physikalischen Parametern gehören: Anodentyp, Abstand zwischen Kathode und Anode, Stromdichte, Bewegung, Temperatur, Gleichrichter und Wellenform usw.
(1) Anodentyp.Wenn es um die Art der Anode geht, gibt es nichts anderes als eine lösliche Anode und eine unlösliche Anode.Lösliche Anoden sind in der Regel phosphorhaltige Kupferkugeln, die anfällig für Anodenschlamm sind, die Galvanisierungslösung verschmutzen und die Leistung der Galvanisierungslösung beeinträchtigen.Unlösliche Anode, gute Stabilität, keine Wartung der Anode erforderlich, keine Bildung von Anodenschlamm, geeignet für Impuls- oder Gleichstromgalvanisierung;Der Verbrauch an Zusatzstoffen ist jedoch relativ groß.
(2) Kathoden- und Anodenabstand.Die Gestaltung des Abstands zwischen Kathode und Anode beim Galvanisieren von Lochfüllprozessen ist sehr wichtig, und auch die Gestaltung verschiedener Gerätetypen ist unterschiedlich.Egal wie es gestaltet ist, es sollte nicht gegen Farahs erstes Gesetz verstoßen.
(3) Umrühren.Es gibt viele Arten des Rührens, darunter mechanisches Schwingen, elektrische Vibration, pneumatische Vibration, Luftrühren, Strahlfluss und so weiter.
Zum Füllen von Löchern in der Elektroplattierung wird im Allgemeinen bevorzugt, ein Düsendesign hinzuzufügen, das auf der Konfiguration des herkömmlichen Kupferzylinders basiert.Bei der Konstruktion des Kupferzylinders müssen Anzahl, Abstand und Winkel der Düsen auf dem Strahlrohr berücksichtigt und eine Vielzahl von Tests durchgeführt werden.
(4) Stromdichte und Temperatur.Eine niedrige Stromdichte und eine niedrige Temperatur können die Abscheidungsrate von Kupfer auf der Oberfläche verringern und gleichzeitig ausreichend Cu2 und Glanzmittel in die Poren einbringen.Unter dieser Bedingung wird die Lochfüllfähigkeit verbessert, aber auch die Galvanisierungseffizienz verringert.
(5) Gleichrichter.Der Gleichrichter ist ein wichtiges Glied im Galvanikprozess.Derzeit beschränkt sich die Forschung zum Lochfüllen durch Galvanisieren meist auf die Ganzplatinen-Galvanik.Wenn man das Füllen von Musterplattierungslöchern in Betracht zieht, wird die Kathodenfläche sehr klein.Derzeit werden sehr hohe Anforderungen an die Ausgangsgenauigkeit des Gleichrichters gestellt. Die Ausgangsgenauigkeit des Gleichrichters sollte entsprechend der Produktlinie und der Größe des Durchgangslochs ausgewählt werden.Je dünner die Leitungen und je kleiner die Löcher, desto höher sollten die Präzisionsanforderungen an den Gleichrichter sein.Im Allgemeinen empfiehlt es sich, einen Gleichrichter mit einer Ausgangsgenauigkeit von weniger als 5 % zu wählen.
(6) Wellenform.Aus Sicht der Wellenform gibt es derzeit zwei Arten des Galvanisierens und Füllens von Löchern: Impulsgalvanisieren und Gleichstromgalvanisieren.Der herkömmliche Gleichrichter wird für die Gleichstromplattierung und das Füllen von Löchern verwendet, was einfach zu bedienen ist. Wenn die Platte jedoch dicker ist, kann nichts unternommen werden.Der PPR-Gleichrichter wird für die Impulsgalvanisierung und das Füllen von Löchern verwendet. Es gibt viele Arbeitsschritte, aber er verfügt über eine starke Verarbeitungsfähigkeit für dickere Platinen.